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原子層沉積系統設計與製作實務

Practical Design and Fabrication of Atomic Layer Deposition System

蕭健男(C. N. Hsiao) ； 柯志忠(C. C. Kei) ； 游智傑(J. C. Yu) ； 林健寶(C. B. Lin) ； 劉伯亨(B. H. Liu) ； 陳永祥(Y. H. Chen)
《真空科技》 26卷1期 (2013/03) Pp. 6-12
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摘要

原子層沉積技術係以前驅物氣體與基板表面所產生的交互反應進行超薄薄膜之成長，其優點為精密的厚度及成分控制與高階梯覆蓋率鍍膜特性。本文介紹原子層沉積技術的原理、發展及基本系統設計製作實務，並討論其於奈米結構之均勻性鍍膜驗證。

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The atomic layer deposition (ALD) is carried out by using exchange reaction between precursor gas molecules and substrate. Good step coverage, thickness uniformity in a large area and precise control in thickness and composition make atomic layer deposition become an enabling technology for the semiconductor industry. In this article, principle, development and design concept of ALD system will be given. Applications of ALD on nanostructured coating will be introduced in detail.

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被引用紀錄

林承翰 (2014). 分支狀PET的結晶行為以及其對耐候性的影響之研究 [master's thesis, National Tsing Hua University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6843/NTHU.2014.00219
Lin, B. Y. (2012). 白光有機電激發光元件外部量子效率及壽命之研究 [master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2012.00334
劉詩婷（2008）。製備Au/Y觸媒應用於0℃ CO氧化反應〔碩士論文，國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2008.01423
Chen, L. Y. (2008). 氮化鎵奈米結構的光激螢光頻譜與拉曼頻譜量測 [master's thesis, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2008.00275
Shih, W. C. (2007). 金與銀及合金奈米粒子催化異相一氧化碳氧化與均相三環芳香烴氫化反應研究 [doctoral dissertation, National Taiwan University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6342/NTU.2007.03174

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