由於離子束濺鍍系統製備之薄膜具有膜會縝密、鍍膜時基板溫度較低、膜內孔隙較少、薄膜堆積密度高等優點，故常被使用於磁性、光學等各種薄膜的製備。有鑑於此，本文將詳細介紹Kaufman型寬束離子源與end-Hall離子源之工作原理與特性，如離子之生成、離子的加速與電子的發射(emission)等過程。此外，也將介紹本實驗室利用雙離子束濺鍍系統之研究成果和離子束濺鍍系統於磁性薄膜之應用與磁記錄媒體之發展。
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