摘要
半導體產業為台灣製造業中的一大族群，其產品的製造過程中需使用到大量的顯影液。因應製程不斷演進升級，唯有提供高品質且供應無虞的化學品，才能讓製程中的曝光及顯影達到更精密的掌控，生產出更精密製程良率高的產品。運用稀釋的方法不但可以降低槽車的充填次數，更可為公司省下相當龐大的原物料成本，針對低濃度、用量大的化學品，有著實質上的效益。本研究所使用的方法是根據廠內既設的顯影液稀釋系統，經過多年的製程演變，當初所建造的系統已不敷現今12吋廠製程所需，透過此次研究所提出系統改善方法，包括相關桶槽容量／精度確認、原液／純水進料調整控制、循環幫浦效能調整、外界干擾因素控制、酸鹼滴定儀效能調整和原液濃度自動回饋機制等六項。在硬體設施修改後並進行實際測試及修正，其結果確實可達廠內製程要求的濃度規格：2.38wt% ± 0.001wt%，且每日供應量15,000L以上之要求。修改前與修改後的系統經實際運轉測試比較下，在維持濃度規格要求下，每日2.38wt%TMAH產量可提升至21,900公升，產能提升50%。