本研究共分為兩大部分,第一部分是量子井雷射二極體的研製,第二部份是取樣式光柵DBR雷射二極體的設計與分析,研究重點分段敘述如下。 首先,本研究採用InGaAlAs/InP材料系統研製多重量子井的薄片式雷射二極體。在雷射晶片磨薄的製程中,提出了新的研磨方法來取代過去常用的手工「8」字型研磨法;使用此種的研磨方法,可以讓雷射晶片成功的從350 μm磨至120 μm厚,其晶圓平均厚度頗為均勻一致,晶片研磨成功的機率高達90 %以上;對於研製完成的雷射,使用本研究室的量測設備,測量雷射的V-I、C-V與L-I特性曲線,並與分析討論。 其次,本研究使用溫度特性特佳的InGaAlAs/InP多重量子井結構,在光耦合強度 與0.5 nm的腔模模距的條件下經適當的調諧機制,成功設計出具有172通道與旁模抑制比高達38 dB以上的取樣式光柵DBR雷射。此雷射在100 mA注入電流與30 GHz頻寬下工作時,其通道切換時間在1奈秒以內。此外,由相對強度雜訊與眼圖的模擬中,亦可知雷射具有極佳的動態特性。