摘要
光電及光學元件因鍍膜而產生之殘留應力，導致製作困難及使用壽命縮短是不容忽視的因素。因空氣中濕氣的滲入而影響殘留應力的現象更值得瞭解。本文採用一種改良之反射式疊紋法，可精密地量測二維之殘留應力分佈，以改善一般量測法只能量測一維殘留應力之缺點。以製作反射鏡之鋁薄膜爲研究對象，採用兩種不同的蒸鍍速率，分別對純鋁膜，或先鍍很薄的絡當襯底再鍍鋁，及鍍氣化矽當保護膜等狀況，在75%相對溼度下，觀察殘留應力分佈對時間的變化。獲得下列之結果：較快的蒸鍍速率產生較大的殘留應力，以鉻當襯底時可使殘留應力下降，在水氣的滲入下，殘留應力會隨時間的增長，而有明顯的變化及偏移現象“若鍍氣化鋁當保護膜時，首先會抵消部分殘留強應力，且曝露於水氣下，殘留應力的變化有明顯下降的趨勢。此項研究結果，對精密光電工業將有所貢獻。