奈米結構之合金與氧化物之電化學製備技術

在不使用「模版」的前提下，鐵鈷鎳鍍層的表面結構奈米化，可以藉由循環伏安法和脈衝反轉電鍍法達到目的。利用循環伏安法進行鐵鈷鎳鍍層結構奈米化時，必須同時包含陰極電鍍區、無電流不反應區和陽極溶解區於同一個循環伏安圖形之中；此原則亦可說明脈衝反轉電鍍法同樣可生成鐵鈷鎳奈米線的現象。奈米結構之氧化物亦可藉由循環伏安法與陽極沉積法製備之，以電化學的方式成長所得的氧化物為含水、高多孔性與非結晶性的材料，最大特色為使用單一步驟即能輕易製得目的材料，在超高電容器的應用上深具開發潛力。