以純鈦中介層提高電弧離子鍍類鑽碳膜在不銹鋼表面的附著性研究

類鑽碳膜(Diamond-Like Carbon, DLC)常伴隨著高殘留應力使其附著性不佳，容易造成鍍膜剝落。本研究以商業化大型電弧離子鍍施鍍類鑽碳膜，先行預鍍純鈦中介層，期望藉此改善類鑽碳膜在不銹鋼上之附著性。研究中以 AISI 304 鏡面不銹鋼做為基材，以鈦金屬為靶材，由三種實驗來達成不同製程參數的組合，分別是以通入不同反應氣體形成多層鍍層組合，改變基材偏壓沉積氮化鈦中介層與導入鈦金屬中介層等方法來沉積含金屬類鑽碳膜，藉以探討這些製程參數對類鑽碳膜在不銹鋼表面的附著性。研究中以掃描式電子顯微鏡觀察鍍膜截面形貌，並對鍍膜進行百格及刮痕附著性試驗。研究結果證實純鈦中介層對類鑽碳膜的附著性提昇最為有效。

關鍵字

類鑽碳膜；電弧離子鍍；附著性；中介層；不銹鋼

被引用紀錄

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