利用改良式交錯沉積技術增強非均向光學薄膜之雙折射特性

Advanced Bideposition Technology of Anisotropic Thin Films with Enhanced Birefringence

任貽均(Yi-Jun Jen) ； 林佳鋒(Chia-Feng Lin) ； 賴俊榕(Chun-Jung Lai) ； 余泰宏(Tai-Hung Yu)

《真空科技》 24卷2期 (2011/06) Pp. 71-75

https://doi.org/10.29808/JVSROC.201106.0009

摘要

本文結合斜向沉積與連續式交錯沉積技術鍍製二氧化鈦(TiO2)與五氧化二鉭(Ta2O5)之非均向薄膜，此薄膜以斜柱型態呈現，其主軸(z)方向是與基板法線方向夾一角度β。在光學特性上，此TiO2和Ta2O5的非均向薄膜之線性雙折射(linear birefringence Δn)在可見光波長632.8nm分別可增強至0.075與0.1428，而且隨著柱狀傾角越大，其雙折射效應也越大。另外，偏極轉換強度可達60%以上，且廣角達20度以上。可用於改變入射光之偏振態，於波板或其它相位延遲器均有很大的應用範圍。

關鍵字

交錯沉積 ； 線性雙折射 ； 非均向光學薄膜

並列摘要

In this work, Ta2O5 and TiO2 anisotropic thin films are fabricated by using advanced bideposition technology. By changing asymmetric deposition angle, the film with a tilted bideposition columnar structure exhibits enhanced birefringence for light incident normally. Moreover, the film is arranged in prism/anisotropic thin prism coupling system and the polarization conversion reflectance is measured over the critical angle under total reflection condition. High conversion efficiency (above 60%) remains in a wide range of incident angle.

並列關鍵字

Bideposition ； Birefringence ； Anisotropic Thin Film