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  • 會議論文

應用K-means群聚演算法於光學微影模擬之分群

摘要


光學微影技術的改善是半導體工業的核心標的,我們嘗試結合SPLAT[1]、MaYaS[2]、Litho-VAT[3]等軟體工具來支援光罩的設計,使得提供更快更準確的資料分析結果,從而使電路設計更加完善。SPLAT模擬軟體的輸出為光強度檔案,以K-means[4]群聚演算法來對這光強度值嘗試分群,並以3D視覺化的圖形呈現。使得工程師可以進一步了解其原設計上的缺陷,產生更佳改品質的光罩。實驗樣本乃採用反向閘的POLY1層和5對32解碼器的Metal1層,來驗證K-means演算法在光罩設計與微影模擬結果之間的輔助誤差分析。

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