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被引用紀錄


Hsu, C. W. (2010). 利用射頻反應磁控濺鍍方式來研究氧化鋅薄膜之材料特性與電漿特性之關係 [doctoral dissertation, National Chiao Tung University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6842/NCTU.2010.00071

延伸閱讀