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IC晶片銅凸塊表面化錫鍍層處理及與化錫基板先進封裝技術
盧威華
《屏科大研發專刊》
20期
(2015/08)
Pp. 1-2
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延伸閱讀
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以控制銅錫介金屬化合物的晶體方向與形貌改善微電子封裝可靠度之研究
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覆晶銲錫凸塊電鍍製程模擬分析與實驗印證
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材料科學與工程
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34
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〔碩士論文,大同大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0081-3001201315105949
許智凱(2006)。
錫覆蓋層/Air-gap 銅導線鑲嵌結構電遷移研究
〔碩士論文,國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1303200709265675
Jenq, S. N. (2006).
電鍍銅於薄膜電晶體陣列線路金屬化之研究
[doctoral dissertation, National Tsing Hua University]. Airiti Library. https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1303200709470567
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