二次氣膠與光化學軌跡模式整合之研究

梁喬凱(Chiao-Kai Liang)

指導教授 ： 張能復

共同指導教授 ： 林文印(Wen-Yin Lin)

國立臺灣大學/工學院/環境工程學研究所/碩士(2004年)

https://doi.org/10.6342/NTU.2004.00700

摘要

本論文的研究內容主要將大氣中二次氣膠生成機制併入光化學軌跡模式中，利用大氣氣相-氣膠之間熱力動性質(平衡常數(K)、活性係數(γ)、水活度(aw)、相對潮解溼度(RHD))，建置二次氣膠模組，並測試二次氣膠模組對各影響因子的敏感度。另外針對南高屏地區臭氧污染事件進行模擬分析，探討光化學軌跡模式中二次氣膠機制對臭氧模擬濃度的影響程度。本研究也針對吳義林等人於民國85年10月25日至27日，在大寮測站三日全天連續二小時採樣，此一研究報告將與二次氣膠併入光化學軌跡後的模式，所模擬出的氣膠模擬值比對，以期能得到模式對大氣氣膠變化的模擬能力。
光化學軌跡模式(TPAQM)模擬結果顯示，二次氣膠機制的作用會對模式模擬濃度有4.5%左右的削減作用，可見二次氣膠機制佔有一定影響力。大氣中含量較多的硫酸鹽、氨鹽、硝酸鹽在模式案例中所模擬出的濃度分別為9.6μg/m3、7.9μg/m3、14.8μg/m3。
另外，針對單一測站全天候臭氧濃度的模擬結果與實際臭氧觀測的日夜變化的趨勢相同，而在氣膠模擬結果與氣膠觀測結果也有相同的趨勢，三日連續模擬日平均二氧化硫比(S.O.R)為0.31，二氧化氮比(N.O.R)為0.13，中和比值(N.R)為1.01。

關鍵字

二次氣膠 ； 光化學軌跡模式

並列摘要

The main content of this research is to develop a secondary aerosol mechanism which is particularly intended for incorporation into the trajectory photochemical air quality model (TPAQM). By using equilibrium constant (K), activity coefficient (γ), water activity (aw) and relative humidity of deliquescence (RHD) properties in secondary aerosol model, we set the model and tested the sensitiveness. Besides, we used TPAQM to study the ozone episodes in Southern Taiwan area and discussed the importance of the secondary aerosol mechanism. We also compared our simulation results with monitoring data which sampled by Wu(1998) at Da-Liao station during 1998 .
The results of case-simulation indicated that the secondary aerosol mechanism makes decrease 4.5% on ozone concentration. It means the secondary aerosol mechanism can’t be ignored. The results of case- simulation of sulfate, ammonium and nitrate are 9.6 μg/m3, 7.9 μg/m3, 14.8 μg/m3, respectively.
Compared with monitoring data, we got the same tendency on ozone and aerosol simulation. The average values of Sulfur Oxidation Ratio (S.O.R), Nitrogen Oxidation Ratio (N.O.R) and Neutralization Ratio (N.R) are 0.31, 0.13 and 1.01 respectively.

並列關鍵字

secondary aerosol mechanism ； TPAQM

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