論文提要 本文探討了Si/SiGe 異質接面及量子井結構的特性,並介紹了一些實驗方法及其結果。在樣品方面,我們使用了Si/SiGe epilayer及Si/SiGe量子井這二個系統。而以主題區分可分為下列三個主題: 1. SiGe在遠紅外光譜的吸收 本實驗室新建立的遠紅外線光譜系統,可以偵測弱束縳系統之束縳能或是躍遷能量。本文介紹了其實驗儀器之操作技巧及工作原理,並引述了他人理論計算之方法與結果,並圖示了此系統的一些特性曲線。最後並量測了一些SixGe1-x 的光譜,其x值在0~0.3之間,量測環境在4k~295k之間。 2. Si/SiGe的霍爾效應 吾人利用了LabVIEW設計了一套自動量測系統,在本文中會對理論解釋、程式設計、儀器配置、以及誤差成因的消去做初步的介紹。量測環境在4k~295k之間,磁場強度變動範圍在0~0.8Tesla之間。 3. 結果與討論 最後提出可能的原因,並討論Si/SiGe異質接面是否真具有產生兆赫波光源的潛力。