專利法揭露要求之研究

Study of Patent Disclosure Requirements

蘇仁濬(Jen-Jun Su)

指導教授 ： 謝銘洋

國立臺灣大學/法律學院/科際整合法律學研究所/碩士(2011年)

https://doi.org/10.6342/NTU.2011.02763

摘要

本論文係藉由分析我國專利法揭露要求之相關規範以及智慧財產法院對於專利法揭露要求之解釋與適用，探討我國專利法揭露要求存在之問題。研究結果發現，我國專利法對於實體揭露要件與形式揭露要件之區分方式未能準確掌握各個要件之本質，形式性揭露要件之違反亦賦予專利撤銷之嚴重法律效果，容易導致專利撤銷之情形過於浮濫。因此，本文認為現行專利法第67條所規定之專利撤銷事由需限縮於實際上對於專利制度之公平性造成影響之情形。

關鍵字

揭露要件 ； 可據以實施 ； 支持 ； 明確 ； 充分揭露 ； 智慧財產法院

並列摘要

The study analyzes the problems of disclosure requirements of the present patent system based on the regulations and the decisions made by the intellectual property court. It reveals that the definitions of the formality requirements and the substantve requirements lacks lack the concerns of the nature of the requirements, the unimportant violation of formality requirements may result in patent revocation. The condicitons of patent revocation are too expanded and needs to be reformed. Thus, article 67 of the present patent law should be modified to simplify the conditions of patent revocation toward the violation of disclosure requirements which may affect the justice of patent system.

並列關鍵字

disclosure requirement ； enablement ； be supported ； definiteness ； sufficiency of disclosure ； intellectual property court

參考文獻

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