樹枝狀含硫高折射率光硬化樹脂之合成與物性探討

The Study of Sulfur-containg High Refractive Index UV Curning Synthesis and Physical Properties Based on Dendrimer

王博正(Po-Cheng Wang)

指導教授 ： 芮祥鵬

國立臺北科技大學/工程學院/有機高分子研究所/碩士(2010年)

摘要

實驗中，所使用的高分子為樹枝狀聚酯高分子（Dendrimer），具高度分枝，為三度空間立體結構，且未端帶有19個acrylate官能基。將末端官能基與不同莫爾數之Thiophenol、4-Methylthiophenol、2-Mercaptothiazoline、2-Mercaptobenzothiazole進行加成反應，合成出一系列含硫高折射率光硬化型寡聚物。探討反應物結構對其折射率的影響，並由FT-IR、HPLC鑑定其結構，再經由折射儀、流變儀、鉛筆硬度計、熱重分析儀、Doublebean Photocalorimeric Accessory(DPA)，對其做一系列的測試。
實驗測試結果表示，樹枝狀聚酯高分子隨著官能基的硫醇接枝數愈高其折射率、黏度、及熱烈解溫度也愈高。以2-Mercaptobenzothiazole結構，提升折射率之幅度最大。而在光硬化動力學分析方面，4-Methylthiophenol系統之轉化率和反應速率最高。在硬度測試上，2-Mercaptothiazoline 系統具有較高的硬度。

關鍵字

樹枝狀高分子 ； 折射率 ； 寡聚合物 ； 光硬化 ； 光起始劑 ； 轉化率 ； 反應速率 ； 硬度

並列摘要

This work, we use dendrimer which has high branch and is a three-dimentional space structure, it has nighteen acrylate group. It reacts with different amount of Thiophenol, 4-Methylthiophenol, 2-Mercaptothiazoline, 2-Mercaptobenzothiazole to proceed the addition reaction for synthesizing the Sulfur-containg high refractive index UV curing oilgomer. To explore the effects of the structure on the refractive index,and then we can test the structure identification by FT-IR, HPLC and the physical properties by Refraction index, Rheometer, Pencil Hardness, Thermal Gravimetric Analysis (TGA), Doublebean Photocalorimeric Accessory(DPA).
In the experimental results, the more moles of thiols branch of the dendrimer the higher RI index ,viscosity, and thermal cracking temperature of that. In these thiols,2-Mercaptobenzothiazole structure which enhance the refraction index is the largest. In UV curing Kinetic analysis, 4-Methylthiophenol system has the highest conversion and reaction rate.In the hardness test, 2-Mercaptothiazoline system has the highest hardness.

並列關鍵字

dendrimer ； refraction index ； oligomer ； UV Curning ； photoinitiator ； conversion ； reaction rate ； hardness

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