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學位論文
氧化鋯鉿鐵電介電層互補式奈米線電晶體經雷射與微波退火之特性研究
Effects of Laser and Microwave Annealing on HfZrO2 Ferroelectric Dielectric Complementary Nanowire FET
黃義帆(YI-FAN HUANG)
指導教授 :
林成利
逢甲大學/資電學院/電子工程學系/碩士(2020年)
https://doi.org/10.6341/fcu.M0705921
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氧化鋯鉿鐵電薄膜
;
絶緣層上矽奈米線電晶體
;
微波退火或雷射退火
;
互補式電晶體反相器
;
靜態隨機存取記憶體
並列摘要
無資料
並列關鍵字
Ferroelectric HfZrO2 Film
;
Ferroelectric FET
;
Microwave/Laser Annealing
;
CMOS Inverter
;
SRAM
延伸閱讀
林毅柔(2017)。
電漿電解氧化與高功率脈衝磁控濺鍍氧化鉭及氧化鋅薄膜之細胞相容性與抗菌性研究
〔碩士論文,國立虎尾科技大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0028-1508201716234100
呂佐文(2007)。
以快速脈衝雷射成長銦錫氧化物在M面與R面氧化鋁基板的結構與電性探討
〔碩士論文,國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2007.00993
Tso, L. Y. (2023).
脈衝雷射蒸鍍法成長氧化釤鋅薄膜之結構、光學、磁性與電性研究
[doctoral dissertation, National Taiwan Normal University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6345/NTNU202300313
Ebothe, J., Plucinski, K. J., Nouneh, K., Cabarrocas, P. R. I., & Kityk, I. V. (2006).
Nonlinear Optical Study of Nano-Sized Effects in a-Si: H Thin Films Deposited by RF-Glow Discharge
.
Journal of Nanomaterials
,
2006
(), 138-142. https://doi.org/10.1155/JNM/2006/63608
林晨弘(2014)。
Formation and Characterization of Composite Nanostructures from Photocatalytic, Dielectric and Ferroelectric Materials
〔碩士論文,國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2014.02834
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