運用六標準差於半導體製程化學氣相沈積能力之均勻度改善

Using Six Sigma to Improve Uniformity for Chemical Vapor Deposition in Semiconductor Manufacturing Process

洪嘉良(Chia-Liang Hung)

指導教授 ： 蕭堯仁

逢甲大學/工學院/工業工程與系統管理學系/碩士(2016年)

https://doi.org/10.6341/fcu.M0317427

摘要

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關鍵字

晶圓 ； 半導體 ； 化學氣相 ； 沈積 ； 六標準差 ； 膜厚均勻度

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並列關鍵字

Wafer ； Semiconductor ； Chemical Vapor Deposition ； Six-sigma ； Uniformity of Film Thickness