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學位論文
運用六標準差於半導體製程化學氣相沈積能力之均勻度改善
Using Six Sigma to Improve Uniformity for Chemical Vapor Deposition in Semiconductor Manufacturing Process
洪嘉良(Chia-Liang Hung)
指導教授 :
蕭堯仁
逢甲大學/工學院/工業工程與系統管理學系/碩士(2016年)
https://doi.org/10.6341/fcu.M0317427
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晶圓
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半導體
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化學氣相
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沈積
;
六標準差
;
膜厚均勻度
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Wafer
;
Semiconductor
;
Chemical Vapor Deposition
;
Six-sigma
;
Uniformity of Film Thickness
延伸閱讀
張庫旗、何應、鄭春生(2019)。
應用六標準差手法改善覆晶載板(FCBGA)之電鍍均勻性
。
品質學報
,
26
(2),114-125。https://doi.org/10.6220/joq.201904_26(2).0003
林正章(2013)。
精實六標準差應用微位相差膜製程之成本降低
〔碩士論文,中原大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6840/cycu201300808
陳偉庭(2007)。
形變溫度施壓處理對超薄閘極氧化層金氧半元件特性影響之研究
〔碩士論文,國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2007.01753
林建頡(2021)。
Using Six Sigma Management to Improve Lamination Process Capability for PCB Industry
〔碩士論文,健行科技大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0022-2508202114403600
曾彥文(2008)。
A Study of Implementing Lean Six Sigma to Prototype Process: Case of Inductor Sample Manufacturing
〔碩士論文,元智大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0009-2407200816341700
國際替代計量
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