一般半導體元件是屬於「由上而下」的製程,利用許多微影和蝕刻技術,來做出特殊的圖案結構,儘管技術日新月異,圖形也變得愈來愈精細,但如何在不影響元件效能的情況下,將其尺寸縮小,這是長久以來一直面臨的挑戰;在分子電子學領域中,則是利用「由下而上」的製程方式,搭配使用半導體製程技術,將分子由下而上成長,可以形成僅約幾個奈米尺寸(<3nm)的通道,有機會突破摩爾定律(Moore’s Law)。 本實驗使用辛烷硫醇和聯苯-4,4´-二硫醇分子作為三電極分子元件源極和汲極之間的通道,在製程上去除因氫氧化鉀蝕刻矽所殘餘的鉀離子後,長久存在的漏電問題獲得很大的改善;此外,將良好的元件做電性分析,兩種分子皆沒有觀察到預期的閘極效應現象。