線型大氣壓低溫電漿之研究

Research of Atmospheric Pressure Line-shaped Cold Plasma

簡士傑(Shih-Jie Jian)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2009年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2009.00439

摘要

目前電漿的鍍膜製程仍是在真空的環境下進行，在真空系統下作業需耗費很長的時間才能做完一個流程，且製作腔體需要很高的成本，因此本實驗主要的研究方向是利用介質屏障放電(dielectric barrier discharge，DBD)進行大氣輝光放電，以氦氣做為電漿源，使有機矽化合物－六甲基矽氧烷(Hexamethyldisiloxane，HMDSO)解離後與基材鍵結形成矽氧膜，同時可藉由控制碳氫基團(C-Hx)的量，使膜的性質為有機性或無機性、疏水性或親水性。本研究並探討以此膜做為液晶配向膜的可行性。藉由控制膜的表面能大小去控制液晶的預傾角大小，實驗結果顯示HMDSO膜配合刷磨式配向技術可達到水平配向效果。

關鍵字

HMDSO ； 電漿

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HMDSO ； plasma

參考文獻

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