使用胺基-矽烷應用在奈米接觸壓印技術的研究

The Study of the Nanocontact Imprint with Aminosilane

陳立偉(Li-Wei Chen)

指導教授 ： 葉鳳生

國立清華大學/電機資訊學院/電子工程研究所/碩士(2006年)

摘要

摘要

本論文的目標是使用軟性HSQ模仁以及將aminosilane當作ink發展在奈米接觸壓印的技術。實驗包括藉由SEM以及AFM的觀察模仁的製作和ink的轉印。我們將軟性HSQ模仁應用在奈米接觸壓印上，將aminosilane以室溫、低壓的條件，壓印在HSQ的基板上，尋找壓印的條件。
實驗分成四個部分：首先利用280μC/cm2低劑量電子束直寫技術及1200C預烤溫度，在HSQ上定義出我們想要圖案，再利用濕式蝕刻方法，配合TMAH濃度5% 蝕刻出模仁。定義出line : space=1 : 10線寬分別為80nm、100nm、150nm、200nm的圖形。
第二部分為使用aminosilane當作奈米接觸壓印的ink，混合不同
的aminosilane與水以及乙醇莫耳數比例來調配ink 。
第三部份是為基板試片的表面處理，配合不同的ink則我們使用
不同的O2 plasma機台對於HSQ基版做表面處理。對於aminosilane有加水的ink則使用O2 plasma intensity為0.26Watt/cm2來對HSQ基板做表面處理；對於aminosilane沒有加水的ink則使用O2 plasma intensity為0.5~1 Watt/cm2來對HSQ基板做表面處理。
第四部份接著是為了檢查transfer pattern以及找尋最好的奈米接觸壓印條件，使用原子力探針顯微鏡針對transfer的寬度和厚度來量測。同時並在蛋白質吸附測試後，使用螢光顯微鏡以及AFM量測transfer的寬度和厚度。
從上述的實驗data，我們成功做出HSQ軟性模仁，並發展奈米接觸壓印的技術，將aminosilane壓印在經過O2 plasma 表面處理的HSQ基板上，最後透過AFM的量測我們找到最佳的奈米接觸壓印的條件。

關鍵字

胺基-矽烷 ； 奈米接觸壓印

參考文獻

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