大氣電漿氧化矽鍍膜之研究

Investigations of SiOx thin films by an atmospheric plasma source

林怡秀(I-Hsiu Lin)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2011年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2011.00370

摘要

本研究利用介質屏障放電(dielectric barrier discharge，DBD)進行大氣輝光放電，以六甲基矽氧烷（Hexamethyldisiloxane，HMDSO）為單體，混合氧氣、氫氣、氮氣、氬氣鍍膜。探討單體流量、混合不同氣體所製備之薄膜。並利用傅氏轉換紅外線光譜儀(FT-IR)、化學分析電子儀(ESCA)、接觸角量測系統、橢圓偏光儀(ellipsometer)、原子力顯微鏡(AFM)、紫外光-可見光光譜儀(UV-Vis)及鉛筆硬度測試薄膜特性。

關鍵字

大氣電漿 ； 六甲基矽氧烷

並列摘要

無資料

並列關鍵字

LAPPJ ； HMDSO

參考文獻

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