在二十世紀初期,人們已經開始研究氧化鋅,包括它的光學性質、電學性質、結晶性質。近年來氧化鋅的奈米結構蓬勃發展,在光電的應用上受到矚目。但是想要有更好的光電應用,必須先製作出低阻抗的p型氧化鋅,這是目前的一大難題,仍待克服。 本論文主要研究氧化鋅奈米柱與p型氧化鋅,使用氧化鋅種子層與摻雜鋁的氧化鋅種子層來成長奈米柱,並由一些簡單的參數變化與種子層的改善,觀察奈米柱的成長情形,嘗試製作出分散性好、垂直性佳的奈米柱。使用氧化鋅種子層的溶液濃度為1 mM,搭配水熱法濃度為6.67 mM,成長出的奈米柱密度為2×109(個數/㎝2),且垂直性佳;摻雜鋁氧化鋅種子層上覆蓋厚度為82nm的氧化鋅薄膜並成長奈米柱,順利在柱體間被填充入材料,表示分散性好,且垂直性佳。p型氧化鋅,由於奈米結構量測上的困難,嘗試製作p型薄膜,以pn接面來進行整流量測,以得出整流效果來證明p型摻雜的成功。氮摻雜薄膜電阻率約為1000 Ω×㎝,且得到整流特性,成功做出p型氧化鋅薄膜;氮鋁共摻雜薄膜在鋁1%左右的摻雜量之下,電阻率更下降為200 Ω×㎝,且得到整流特性,亦為p型薄膜。