本篇論文主要研究X光以廣角入射矽奈米線時,藉由矽原子面(1 1 3)產生的表面繞射光,使得光可沿著矽奈米線方向行進。而X光進入矽奈米線後則利用全反射原理將X光限制在其中,進而可研究其水平傳播及散射之現象和成因。 理論上以電磁波波導原理出發,將矽奈米線當作平面波導管,利用馬克斯威爾方程式推導出可於管中傳播的模式,若為非傳播模式角度入射的X光,則以傅立葉展開將電場及磁場展開成可傳播模式之組合。因不同偵測器位置對應於不同出射角,我們可計算不同旋轉角度下的偵測器收到之強度分佈。 實驗上以晶向[0 0 1]的矽晶圓為材料,於其上蝕刻出寬度分佈350nm~20μm的矩型圖樣,並於整片矽晶原上下鍍金形成全反射介面。實驗證實以大角度入射矽奈米線之可行性,我們旋轉樣品以改變X光與側壁的入射角,並藉由比較不同入射光位置判定光點來源,結果驗證進入矽奈米線的X光部份穿出,部份則因全反射進入矽中;另一方面我們也能利用水平方向得到的資訊,對垂直方向傳播機制進行進一步探究。