無縫滾筒式奈米壓印模具之曝光機台設計

Design of Seamless Roller Mold Exposure Machine for Roller-Type Nanoimprint

翁振民(Chen-Ming Wong)

指導教授 ： 宋震國

國立清華大學/工學院/動力機械工程學系/碩士(2010年)

摘要

滾筒式奈米壓印是目前最具前瞻性的軟性電子製程技術之一。其原理是以表面具有奈米結構之滾筒模具，在可撓性基板上，同時進行連續性滾壓與固化以製造奈米結構。比起傳統批次式製程具有低生產成本、低耗能、高產能、大面積連續製造等優勢。
然而因為滾筒表面為曲面，滾筒式奈米壓印模具的製作較平面式更為困難。為了研發奈米尺度的無縫模具，本研究結合精密機械設計與雷射干涉微影 (Laser Interference Lithography, LIL) 技術，設計製造一具精密滾筒曝光機台。製程方面，於滾筒表面塗佈光阻，經過LIL於滾筒表面定義微奈米特徵圖形，再經過顯影與無電鍍鎳製程，可得到滾筒鎳模具。
機械設計方面，首先分析LIL曝光製程可能之運動方式、所需之整體精度與容許誤差，設計包含旋轉與直線運動之曝光機台，然後使用誤差轉移矩陣理論，對機台進行運動誤差分析，最後使用電容式位移計量測其動態徑向與軸向旋轉誤差，以驗證機台設計。

關鍵字

滾筒式奈米壓印 ； 軟性電子 ； 雷射干涉微影

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無資料

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Roller-type Nanoimprint Lithography ； Flexible Electronics ； Laser Interference Lithography ； LIL

參考文獻

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