- 學位論文
高介電常數介電層金屬閘極元件電性與可靠度特性研究
An Electrical and Reliability Study of High-k Gate Dielectric/ Metal Gate Device for nano-scale CMOS technologies
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延伸閱讀
- You, S. L. (2007). 高介電常數閘極介電層電容元件之非彈性電子穿隧能譜研究 [master's thesis, National Tsing Hua University]. Airiti Library. https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1411200715145071
- 陳志豪（2008）。金氧半元件中高介電係數閘極介電層之反轉穿隧電流特性分析〔碩士論文，國立臺灣大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6342/NTU.2008.02454
- 張新君（2006）。金氧半元件金屬閘極和高介電係數介電層之製程整合研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6843/NTHU.2006.00067
- Su, P. H. (2016). 高介電材料金屬閘極塊材鰭式場效應電晶體製程參數分析與電特性建模之研究 [doctoral dissertation, National Chiao Tung University]. Airiti Library. https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0030-2212201712085242
- Tan, S., & Liu, T. (2005). Challenges and Performance Limitations of High-k and Oxynitride Dielectrics Materials for Low Power CMOS Applications. 華岡工程學報, (19), 135-140. https://doi.org/10.29987/CCUHKJE.200506.0013