利用電信量測機作為檢查光罩重合精度替代方式之研究

The method for checking alignment accuracy of a thin film transistor (TFT) by TEG test

邱啟明(Chi-Ming Chiou)

指導教授 ： 籃山明

中原大學/工學院/電子工程研究所/碩士(2012年)

https://doi.org/10.6840/cycu201200453

摘要

現今面板廠針對各光罩之間的重合精度，絕大部分使用光學式量測機量測兩道光罩所曝出圖樣之距離，作為重合精度之判定，但是此種方式無法做到大量的檢查，因為光學式量測機在每次的檢查都相當耗時。本篇主要介紹一種檢查TFT LCD光罩重合精度的方法，利用光罩重合關係形成一種斷路或是通路作為開關並串接在面板中之Array TEG(Test Element Group)電性檢查圖案上，作為檢查重合精度之替代方式。
我們發現GE/PE之設計值X1+X2間距應為3.5um於蝕刻後為X1 X2雙邊間距為2um，最符合面板廠之重合精度管控規格:單邊偏移量=1um。

關鍵字

重合精度 ； 檢查方式

並列摘要

Today’s TFT LCD Panel Makers use optical measurement to measure the distance of patterns exposed by two different masks to present the alignment accuracy of two mask . But it is hard to do a lot of alignment accuracy check，because the optical measurement’s tact time is very long for each inspection . This article mainly introduced the method for checking alignment accuracy of a thin film transistor (TFT)，the switch is using the Mask Overlap relations to form a open or non-open circuit and combine the Array TEG(Test Element Group) for checking alignment accuracy.
It was found the design of space GE/PE should be 3.5um，because after wet etching process it will become to 2um，it means that the overlap of GE/PE is almost about 1um，will match the control spec of Overlap for LCD Maker.

並列關鍵字

Overlap TEG

參考文獻

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ALIGNMENT ACCURACY OF A THIN FILM TRANSISTOR

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