陰離子型共聚物的合成及應用於鈦酸鋇漿體的分散

陳文儀

指導教授 ： 許貫中

國立臺灣師範大學/理學院/化學系/碩士(2007年)

摘要

鈦酸鋇是一種高介電常數的陶瓷粉體，為積層陶瓷電容器的關鍵原料。在鈦酸鋇電子陶瓷的製程中，要得到穩定性高且分散良好的漿體，必須添加分散劑。本篇論文合成一種陰離子型共聚物，並探討其對於鈦酸鋇水系漿體分散性質的影響。首先，在鹼性環境下，利用自由基聚合反應，合成出相同分子量，不同單體比例的共聚物poly(methacrylic acid-co-methacrylamide-co-(b-carboxylate(hydroxyl acrylic polyethylester))) (PMAMC)，並以1H-NMR及FT-IR確認聚合物的結構，以GPC測定其分子量，使用電位滴定儀測量共聚物含羧基比例及其解離率。其次，探討這兩種共聚物對鈦酸鋇水系漿體分散性的影響，研究方法有流變行為、沈降體積及粒徑分佈的測試，並利用界達電位及吸附量等實驗結果來解釋，另外，利用ICP-MS來測量鈦酸鋇漿體中鋇離子的溶出量。研究結果顯示添加這兩種共聚物皆能使鈦酸鋇漿體穩定，而其中又以添加PMAMC 1分散效果最佳。相對於PMAMC 0，添加PMAMC 1對於漿體中電解質濃度的變化較無影響，因為PMAMC 1帶有長側鏈CHAP。最後，添加共聚物PMAMC皆能抑制鋇離子溶出。
關鍵字：鈦酸鋇、共聚物、合成、分散、鋇離子溶出

關鍵字

鈦酸鋇 ； 分散劑 ； 合成

參考文獻

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