SPUTTER濺鍍Mo薄膜在不同基板上之表面特性分析

Surface Characteristic Analysis of Mo Thin Films on Various Substrates by Sputter

許能傑(Neng-Jye Hsu) ； 黃泰錦(Robert Hwang) ； 高樞宇(Shu-Yu Gao) ； 劉政諺(Zheng-Yan Liu)

《中華技術學院學報》 40期 (2009/06) Pp. 385-401

https://doi.org/10.7095/JCIT.200906.0385

摘要

鉬金屬(Mo，Molybdenum)，金屬薄膜具有高度的光學反射性質、低電阻以及高壓縮應力且鉬金屬薄膜與CuInSe2薄膜具有良好之歐姆接觸特性，在製作CIGS太陽能電池是不可缺的一個電極材料，在本研究中利用DC SPUTTER方式，控制其生長環境來進行Mo金屬鍍膜，在不同基材（不鏽鋼、Al2O3、SiO2、退火過的不繡鋼..等），並利用SEM、AFM、XRD..等對不同的鍍膜來進行分析，在測量後發現，沉積Mo在上述基材中以SiO2為最佳，但在高溫製作時Al2O3比SiO2更能改善Mo裂縫情形，本實驗最佳參數為基板溫度200°C濺鍍功率100W。

關鍵字

鉬 ； 直流濺鍍機 ； 不繡鋼

並列摘要

Molybdenum metal (Mo, Molybdenum) with a high degree of optical reflectivity in nature, low resistance and high compressive stress and good ohmic contact with CuInSe2 is an indispensable electrode material for CIGS In this study, DC SPUTTER is used to deposite Mo metal on various substrates such as stainless steel, Al2O3, SiO2, etc, then combined use of SEM, AFM, XRD. In the measurement revealed that Mo deposition in the above-mentioned substrates with SiO2 as the best, but when produced in high-temperature Al2O3 shows less crackes than SiO2 substrates. In this study, the optimum parameters for depositing Mo metal thin films on SiO2 substrate is as following: substrate temperature 200℃, sputtering power 100W.

並列關鍵字

Molybdenum ； Sputter ； Stainless steel ； SiO2