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利用在矽基板上Si(上標 +)預離子佈置來提高GeSi緩衝層的鬆驰以利Ge的成長
謝炎璋
;
張翼
;
羅廣禮
;
M. H. Pilkuhn
;
唐仕軒
;
張俊彥
;
楊忠諺
《國家奈米元件實驗室newsletter》
12期
(2008/08)
Pp. 8-8
https://doi.org/10.6484/NNDLN.200808.0008
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林修銘(2019)。
以LPE法在Si(111)基板上進行高Ge組成低缺陷密度GexSi1-x橫向磊晶研究
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