摘要
積體光學(integrated optics)之光波導(waveguide)元件具有高度的靈敏度，不受電磁波干擾的影響，以及能應用在各種危險的環境中，降低人類工作環境的危險，使人類獲得更大的方便，而目前所採用的爲矽基材，其在製程技術相當成熟，因此未來較有利於製程的整合。 我們利用電漿輔助化學氣相沈積(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)，合成二氧化矽(SiO2)厚膜，加上摻雜不同元素來調變其折射率，以稜鏡耦合系統(prism coupler system)量測膜的厚度及折射率，然後分別沈積光波導管的導光層(core layer)及緩衝層(buffer layer)，搭配光微影(photolithography)技術作出光波導結構，並鋪上覆蓋層(cladding layer)，最後再以光學衰退量測系統(optical loss measurement system)，量測光在波導管中衰減的程度，以評估此光波導元件的品質，並作爲其它積體光學元件發展的起步。