|
[1] C. D. Dimitrakopoulos, L. P. R. Malenfant, Adv. Mater. 2002, 14, 99. [2] J. Veres, S. Ogier, G. Lloyd, D. de Leeuw, Chem. Mat. 2004, 16, 4543. [3] A. Facchetti, M. H. Yoon, T. J. Marks, Adv. Mater. 2005, 17, 1705. [4] J. Tate, J. A. Rogers, C. D. W. Jones, B. Vyas, D. W. Murphy, W. J. Li, Z. A. Bao, R. E. Slusher, A. Dodabalapur, H. E. Katz, Langmuir 2000, 16, 6054. [5] T. Kawase, T. Shimoda, C. Newsome, H. Sirringhaus, R. H. Friend, Thin Solid Films 2003, 438, 279. [6] H. Sirringhaus, T. Kawase, R. H. Friend, T. Shimoda, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, Science 2000, 290, 2123. [7] C. W. Sele, T. von Werne, R. H. Friend, H. Sirringhaus, Adv. Mater. 2005, 17, 997. [8] M. Lefenfeld, G. Blanchet, J. A. Rogers, Adv. Mater. 2003, 15, 1188. [9] T. Makela, S. Jussila, H. Kosonen, T. G. Backlund, H. G. O. Sandberg, H. Stubb, Synth. Met. 2005, 153, 285. [10] K. S. Lee, T. J. Smith, K. C. Dickey, J. E. Yoo, K. J. Stevenson, Y. L. Loo, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 2409. [11] S. Kobayashi, T. Nishikawa, T. Takenobu, S. Mori, T. Shimoda, T. Mitani, H. Shimotani, N. Yoshimoto, S. Ogawa, Y. Iwasa, Nat. Mater. 2004, 3, 317. [12] K. P. Pernstich, S. Haas, D. Oberhoff, C. Goldmann, D. J. Gundlach, B. Batlogg, A. N. Rashid, G. Schitter, J. Appl. Phys. 2004, 96, 6431. [13] L. L. Chua, P. K. H. Ho, H. Sirringhaus, R. H. Friend, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3400. [14] D. J. Frank, R. H. Dennard, E. Nowak, P. M. Solomon, Taur, Y.; Wong, H. S. P. Proc. IEEE 2001, 89, 259. [15] Sze, S. M. Semiconductor DevicessPhysics and Technology; John Wiley and Sons, Inc.: New York, 2002. [16] M. D. Austin, S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4431. [17] M. L. Chabinyc, J. P. Lu, R. A. Street, Y. L. Wu, P. Liu, B. S. Ong, J. Appl. Phys. 2004, 96, 2063. [18] G. S. Tulevski, C. Nuckolls, A. Afzali, T. O. Graham, C. R. Kagan, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 183101. [19] J. N. Haddock, X. H. Zhang, S. J. Zheng, Q. Zhang, S. R. Marder, B. Kippelen, Org. Electron. 2006, 7, 45. [20] C. R. Kagan, A. Afzali, R. Martel, L. M. Gignac, P. M. Solomon, A. G. Schrott, B. Ek, Nano Lett. 2003, 3, 119. [21] S. Hoshino, M. Yoshida, S. Uemura, T. Kodzasa, N. Takada, T. Kamata, K. Yase, J. Appl. Phys. 2004, 95, 5088. [22] D. M. Russell, T. Kugler, C. J. Newsome, S. P. Li, M. Ishida, T. Shimoda, Synth. Met. 2006, 156, 769. [23] A. C. Arias, F. Endicott, R. A. Street, Adv. Mater. 2006, 18, 2900. [24] T. J. Richards, H. Sirringhaus, Appl. Phys. Lett. 2007, 102, 094510. [25] T. M. T. Miyadera, K. Tsukagoshi, Y. Aoyagi. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 053508. [26] R. A. Street, A. Salleo, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2887. [27] D. J. Gundlach, L. Zhou, J. A. Nichols, T. N. Jackson, P. V. Necliudov, M. S. Shur, J. Appl. Phys. 2006, 100, Art. No. 024509. [28] I. G. Hill, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, Art. No. 163505. [29] C. R. Newman, R. J. Chesterfield, M. J. Panzer, C. D. Frisbie, J. Appl. Phys. 2005, 98, 084506. [30] C. H. Lei, A. Das, M. Elliott, J. E. Macdonald, M. L. Turner, Synth. Met. 2004, 145, 217. [31] Y. Roichman, N. Tessler, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 151. [32] L. Buergi, T. J. Richards, R. H. Friend, H. Sirringhaus, J. Appl. Phys. 2003, 94, 6129 [33] L. L. Chua, J. Zaumseil, J. F. Chang, E. C. W. Ou, P. K. H. Ho, H. Sirringhaus, R. H. Friend, Nature 2005, 434, 194. [34] A. Facchetti, M. Mushrush, H. E. Katz, T. J. Marks, Adv. Mater. 2003, 15, 33. [35] Zaumseil; H. Sirringhaus, Chem. Rev. 2007, 107, 1296 [36] L. Burgi; R. H. Friend; H. Sirringhaus Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1482. [37] L. Burgi; T. Richards, M. Chiesa, R. H. Friend, H. Sirringhaus Synth. Met. 2005, 146, 297. [38] W. Warta, R. Stehle, N. Karl, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1985, 36, 163. [39] M. C. J. M. Vissenberg, M. Matters, Phys. Rev. B 1998, 57, 12964. [40] C. Tanase, E. J. Meijer, P. W. M. Blom, D. M. de Leeuw, Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 216 601. [41] J. Veres, S. D. Ogier, S. W. Leeming, D. C. Cupertino, S. M. Khaffaf, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 199. [42] H. Sirringhaus, Adv. Mater. 2005, 17, 2411. [43] A. Salleo, T. W. Chen, A. R. Volkel, Y. Wu, P. Liu, B. S. Ong, R. A. Street, Phys. Rev. B 2004, 70, 115 311. [44] A. Salleo, Materials Today 2007, 10, 38 [45] Hassenkam, T., Daniel R. Greve,Thomas Bjùrnholm., Adv. Mater. 2001, 13, 631 [46] H. Sirringhaus, P. J. Brown, R. H. Friend, M. M. Nielsen, K. Bechgaard, B. M. W. Langeveld-Voss, A. J. H. Spiering, R. A. J. Janssen, E. W. Meijer, P. Herwig, D. M. de Leeuw, Nature 1999, 401, 685 [47] J. F. Chang, B. Q. Sun, D. W. Breiby, M. M. Nielsen, T. I. Solling, M. Giles, I. McCulloch, H. Sirringhaus, Chem. Mater. 2004, 16, 4772. [48] H. Yang, T. J Shin, L. Yang, K. Cho, C. Y. Ryu, Z. Bao Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 671. [49] M. Surin, Ph. Leclère, R. Lazzaroni, J. D. Yuen, G. Wang, D. Moses, A. J. Heeger, S. Chob, K. Leeb, J. Appl. Phys. 2006, 100, 033712 [50] D. H. Kim, Y. D. Park, Y. Jang, H. Yang, Y. H. Kim, J. I. Han, D. G. Moon, S. Park, T. Chang, C. Chang, M. Joo, C. Y. Ryu, K, Cho, Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 77. [51] D. H. Kim, Y. Jang, Y. D. Park, K. Cho, Langmuir 2005, 21, 3203 [52] R. J. Kline, M. D. McGehee, E. N. Kadnikova, J. S. Liu, J. M. J. Frechet, Adv. Mater. 2003, 15, 1519. [53] R. J. Kline, M. D. McGehee, E. N. Kadnikova, J. S. Liu, J. M. J. Frechet, M. F. Toney, Macromolecules 2005, 38, 3312. [54] J.-M. Verilhac, G. LeBlevennec, D. Djurado, F. Rieutord, M. Chouiki, J.-P. Travers, A. Pron, Synth. Met. 2006, 156, 815 [55] J.-F. Chang, J. Clark, N. Zhao, H. Sirringhaus, D. W. Breiby, J. W. Andreasen, M. M. Nielsen, M. Giles, M. Heeney, I. McCulloch, Phys. Rev. B 2006, 74, 115318 [56] Y. Chen, I. Shih, and S. Xiao, J. Appl. Phys. 2004, 96, 454. [57] L. Ma, W.-H. Lee, Y.-D. Park, J.-S. Kim, H.-S. Lee, and K. Cho, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 063310. [58] Y.-D. Park, D.-H. Kim, J.-A. Lim, J.-H. Cho, Y.-Jang, W.-H. Lee, J.-H. Park, and K. Cho, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 1705 [59] Y. Abe, T. Hasegawa, Y. Takahashi, T. Yamada, and Y. Tokura, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 153506. [60] H. Shimotani, G. Diguet, and Y. Iwasa, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 022104. [61] J. Takeya, K. Yamada, K. Hara, K. Shigeto, K. Tsukagoshi, S. Ikehata, and Y. Aoyagi, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 112102. [63] J. Kanicki, in Thin Film Transistors (Eds: C. R. Kagan, P. Andry), Marcel Dekker, New York 2003, p. 71. [62] W. Wu, Y. Liu, Y. Wang, H. Xi, X. Gao, C. Di, G. Yu, W. Xu, and D. Zhu, Adv. Fun. Mater. 2008, 18, 810. [64] S. Grecu, M. Bronner, A. Opitz, and W. Brutting, Synth. Met. 2004, 146, 359. [65] S. Y. Park, M. Park, and H. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 2283. [66] S. Uemura, A. Komukai, R. Sakaida, T. Kawai, M. Yoshida, S. Hoshino, T. Kodzasa, and T. Kamata, Synth. Met. 2005, 153, 405. [67] L.-L. Chua, P. K. H. Ho, H. Sirringhaus, and R. H. Friend, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3400. [68] L. L. Chua, J. Zaumseil, J. F. Chang, E. C. W. Ou, P. K. H. Ho, H. Sirringhaus, R. H. Friend, Nature 2005, 434, 194. [69] G. Wang, D. Moses, A. J. Heeger, H.-M. Zhang, M. Narasimhan, and R. E. Demaray, J. Appl. Phys. 2004, 95, 316 [70] P. J. Brown, H. Sirringhaus, and M. Harrison, Phys. Rev. B 2001, 63, 125204. [71] S. Scheinert, and W. Schliefke, Synth. Met. 2003, 139, 501. [72] G. Gu, M. G. Kane, J. E. Doty, and A. H. Firester, Appl. Phys Lett. 2005, 87, 243512 [73] G. Gu, and G. Kane, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 053305 [74] S. Ohta, T. Chuman, S. Miyaguchi, H. Satoh, T. Tanabe, Y. Okuda and M. Tsuchida, J. J. Appl. Phys. 2005, 44, 3678 [75] M. Mizukami, N. Hirohata, T. Iseki, K. Ohtawara, T. Tada, S. Yagyu, T. Abe, T. Suzuki, Y. Fujisaki, Y. Inoue, S. Tokito, and T. Kurita, IEEE Electro. lett. 2006, 27, 249 [76] L. Zhou, A. Wanga, S.-C. Wu, J. Sun, S. Park, and T. N. Jackson, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 083502 [77] M. Katsuhara, I. Yagi, M. Noda, N. Hirai, R. Yasuda, T. Moriwaki, S. Ushikura, A. Imaoka, and K. Nomoto, J. Soc. Info. Display 2008, 16/1, 15 [78] A. C. Arias, S. E. Ready, R. Lujan, W. S. Wong, K. E. Paul, A. Salleo, M. L. Chabinyc, R. Apte, Robert A. Street, Y. Wu, P. Liu, and B. Ong, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3304. [79] L. Zhou, A. Wanga, S. Wu, J. Sun, S. Park, and T. N. Jackson, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 083502. [80] S. E. Burns, K. Reynolds, W. Reeves, M. Banach, T. Brown, K. Jacobs, A. Menon, S. Siddique, P. Too, C. Ramsdale, J. Watts, P. Cain, T. von Werne, J. Mills, C. Curling, H. Sirringhaus, K. Amindson, and M. D. McCreary, J. Soc. Inf. Display 2005, 13, 583. [81] Y. Wu, P. Liu, B. S. Ong, T. Srikumar, N. Zhao, G. Botton, and S. Zhu. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 142102 [82] S.-A. Chen, and C.-S. Liao, Macromolecules 1993, 26, 2810. [83] S.-A. Chen, and J.-M. Ni, Macromolecules 1992, 25, 6081. [84] H.-E. Tseng, K.-Y. Pang, and S.-A. Chen, Appl. Phys Lett. 2003, 82, 4086. [85] P. Braunlich, L. A. Dewerd, J. P. Fillard, J. Gasiot, H. Glaefeke, P. Kelly, D. Lang V., and J. Vanderschueren, Thermally Stimulated Relaxation in Soids, SpringerVerlag: Berlin, 1979 [86] B. S. Ong, Y. L. Wu, P. Liu, and S. Gardner, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3378 [87] J. Chen, C.-K. Tee, M. Shtenin, J. Anthony, and D. C. Martin, J. Appl. Phys. 2008, 103, 114513. [88] D. Gupta, N. Jeon, and S. Yoo, Org. Electron. 2008, 9, 1026 [89] C.-C. Hsiao, C.-H. Chang, M.-C. Hung, N.-J. Yang, and S.-A. Chen, Appl. Phys Lett. 2005, 86, 223505. [90] M. S. A. Abdou, and S. Holdcroft, Chem. Mater. 1994, 6, 962.
|