|
1. Edgar, L. J. Method and apparatus for controlling electric currents. US1745175, 1930. 2. Kahng, D.; Atalla, M. M., In IRE Solid-State Devices Research Conference, Carnegie Institute of Technology, Pittsburgh PA, 1960. 3. Tsumura, A.; Koezuka, H.; Ando, T., Appl. Phys. Lett. 1986, 49, 1210-1212. 4. Horowitz, G., Adv. Mater. 1998, 10, 365-377. 5. Zaumseil, J.; Sirringhaus, H., Chem. Rev. 2007, 107, 1296-1323. 6. Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G.; de Leeuw, D., Chem. Mater. 2004, 16, 4543-4555. 7. Rogers, J. A.; Bao, Z. N.; Raju, V. R., Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2716-2718. 8. Sirringhaus, H.; Kawase, T.; Friend, R. H.; Shimoda, T.; Inbasekaran, M.; Wu, W.; Woo, E. P., Science 2000, 290, 2123-2126. 9. Bao, Z. N.; Rogers, J. A.; Katz, H. E., J. Mater. Chem. 1999, 9, 1895-1904. 10. Gelinck, G. H.; Huitema, H. E. A.; Van Veenendaal, E.; Cantatore, E.; Schrijnemakers, L.; Van der Putten, J.; Geuns, T. C. T.; Beenhakkers, M.; Giesbers, J. B.; Huisman, B. H.; Meijer, E. J.; Benito, E. M.; Touwslager, F. J.; Marsman, A. W.; Van Rens, B. J. E.; De Leeuw, D. M., Nat. Mater. 2004, 3, 106-110. 11. Zhou, L. S.; Wanga, A.; Wu, S. C.; Sun, J.; Park, S.; Jackson, T. N., Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 083502. 12. Chwang, A. B.; Rothman, M. A.; Mao, S. Y.; Hewitt, R. H.; Weaver, M. S.; Silvernail, J. A.; Rajan, K.; Hack, M.; Brown, J. J.; Chu, X.; Moro, L.; Krajewski, T.; Rutherford, N., Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 413-415. 13. Clemens, W.; Fix, I.; Ficker, J.; Knobloch, A.; Ullmann, A., J. Mater. Res. 2004, 19, 1963-1973. 14. Kelley, T. W.; Baude, P. F.; Gerlach, C.; Ender, D. E.; Muyres, D.; Haase, M. A.; Vogel, D. E.; Theiss, S. D., Chem. Mater. 2004, 16, 4413-4422. 15. Takeya, J.; Yamagishi, M.; Tominari, Y.; Hirahara, R.; Nakazawa, Y.; Nishikawa, T.; Kawase, T.; Shimoda, T.; Ogawa, S., Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 102120. 16. Kim, C. S.; Lee, S.; Gomez, E. D.; Anthony, J. E.; Loo, Y. L., Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 103302. 17. Chua, L. L.; Zaumseil, J.; Chang, J. F.; Ou, E. C. W.; Ho, P. K. H.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H., Nature 2005, 434, 194-199. 18. Pernstich, K. P.; Haas, S.; Oberhoff, D.; Goldmann, C.; Gundlach, D. J.; Batlogg, B.; Rashid, A. N.; Schitter, G., J. Appl. Phys. 2004, 96, 6431-6438. 19. Ulman, A., Chem. Rev. 1996, 96, 1533-1554. 20. DiBenedetto, S. A.; Facchetti, A.; Ratner, M. A.; Marks, T. J., Adv. Mater. 2009, 21, 1407-1433. 21. Videlot-Ackermann, C.; Brisset, H.; Zhang, J.; Ackermann, J.; Nenon, S.; Fages, F.; Marsal, P.; Tanisawa, T.; Yoshimoto, N., J. Phys. Chem. C 2009, 113, 1567-1574. 22. Salleo, A.; Chabinyc, M. L.; Yang, M. S.; Street, R. A., Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4383-4385. 23. Wang, Y. L.; Lieberman, M., Langmuir 2003, 19, 1159-1167. 24. Celle, C.; Suspene, C.; Simonato, J. P.; Lenfant, S.; Ternisien, M.; Vuillaume, D., Org. Electron. 2009, 10, 119-126. 25. Seo, J. H.; Chang, G. S.; Wilks, R. G.; Whang, C. N.; Chae, K. H.; Cho, S.; Yoo, K. H.; Moewes, A., J. Phys. Chem. B 2008, 112, 16266-16270. 26. Silberzan, P.; Leger, L.; Ausserre, D.; Benattar, J. J., Langmuir 1991, 7, 1647-1651. 27. Mascaro, D. J.; Thompson, M. E.; Smith, H. I.; Bulovic, V., Org. Electron. 2005, 6, 211-220. 28. Lee, W. H.; Kim, D. H.; Cho, J. H.; Jang, Y.; Lim, J. A.; Kwak, D.; Choa, K., Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 3. 29. Zhao, Y.; Xie, Z. Y.; Qu, Y.; Geng, Y. H.; Wang, L. X., Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 3. 30. Dickey, K. C.; Anthony, J. E.; Loo, Y. L., Adv. Mater. 2006, 18, 1721-1726. 31. 沈鼎昌, 神奇的光–同步輻射. 牛頓出版股份有限公司: 1999. 32. 國家同步輻射中心 什麼是同步加速器光源?. http://www.nsrrc.org.tw/chinese/lightsource.aspx 33. Christmann, K., Introduction to surface physical chemistry. Steinkopff ; Springer-Verlag: Darmstadt New York, 1991; p x, 274. 34. Ertl, G.; Küppers, J., Low energy electrons and surface chemistry. 2nd ed.; VCH: Weinheim, Germany ; Deerfield Beach, FL, USA, 1985; p xii, 374. 35. Schlaf, R. Tutorial on Work Function; 2007. 36. Wan, A.; Hwang, J.; Amy, F.; Kahn, A., Org. Electron. 2005, 6, 47-54. 37. Kahn, A.; Koch, N.; Gao, W. Y., J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2003, 41, 2529-2548. 38. Kaji, T.; Entani, S.; Ikeda, S.; Saiki, K., Adv. Mater. 2008, 20, 2084-2089. 39. Hong, K.; Lee, J. W.; Yang, S. Y.; Shin, K.; Jeon, H.; Kim, S. H.; Yang, C.; Park, C. E., Org. Electron. 2008, 9, 21-29. 40. Seo, J. H.; Kang, S. J.; Kim, C. Y.; Yoo, K. H.; Whang, C. N., J. Phys.: Condens. Matter 2006, S2055-S2060. 41. Stöhr, J., NEXAFS spectroscopy. Springer-Verlag: Berlin ; New York, 1992; p xv, 403. 42. Skoog, D. A.; Holler, F. J.; Nieman, T. A., Principles of instrumental analysis. 5th ed.; Saunders College Pub. : Harcourt Brace College Publishers: Philadelphia, 1998; p xv, 849, [93]. 43. Newman, C. R.; Frisbie, C. D.; da Silva, D. A.; Bredas, J. L.; Ewbank, P. C.; Mann, K. R., Chem. Mater. 2004, 16, 4436-4451. 44. Chen, M. C.; Kim, C.; Chen, S. Y.; Chiang, Y. J.; Chung, M. C.; Facchetti, A.; Marks, T. J., J. Mater. Chem. 2008, 18, 1029-1036. 45. Smith, M. B.; Efimenko, K.; Fischer, D. A.; Lappi, S. E.; Kilpatrick, P. K.; Genzer, J., Langmuir 2007, 23, 673-683. 46. Bierbaum, K.; Kinzler, M.; Woll, C.; Grunze, M.; Hahner, G.; Heid, S.; Effenberger, F., Langmuir 1995, 11, 512-518. 47. Sugimura, H.; Ushiyama, K.; Hozumi, A.; Takai, O., Langmuir 2000, 16, 885-888. 48. Huang, Z. Y.; Wang, P. C.; MacDiarmid, A. G.; Xia, Y. N.; Whitesides, G., Langmuir 1997, 13, 6480-6484. 49. Wang, M. J.; Liechti, K. M.; Wang, Q.; White, J. M., Langmuir 2005, 21, 1848-1857. 50. Payne, M. M.; Parkin, S. R.; Anthony, J. E.; Kuo, C. C.; Jackson, T. N., J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 4986-4987. 51. Yannoulis, P.; Frank, K. H.; Koch, E. E., Surf. Sci. 1991, 241, 325-334. 52. Watkins, N. J.; Gao, Y., J. Appl. Phys. 2003, 94, 5782-5786. 53. Possanner, S. K.; Zojer, K.; Pacher, P.; Zojer, E.; Schuerrer, F., Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 958-967. 54. Braga, D.; Horowitz, G., Adv. Mater. 2009, 21, 1473-1486. 55. Kobayashi, S.; Nishikawa, T.; Takenobu, T.; Mori, S.; Shimoda, T.; Mitani, T.; Shimotani, H.; Yoshimoto, N.; Ogawa, S.; Iwasa, Y., Nat. Mater. 2004, 3, 317-322. 56. Jia, H. P.; Pant, G. K.; Gross, E. K.; Wallace, R. M.; Gnade, B. E., Org. Electron. 2006, 7, 16-21. 57. Gelius, U.; Wannberg, B.; Baltzer, P.; Fellnerfeldegg, H.; Carlsson, G.; Johansson, C. G.; Larsson, J.; Munger, P.; Vegerfors, G., J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 1990, 52, 747-785.
|