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作者(中文):張雅欣
作者(外文):Chang, Ya-Hsin
論文名稱(中文):TFT-LCD 背光模組平面外溫濕位移場之實驗與數值探討
論文名稱(外文):Experimental and numerical investigation of out-of-plane hygrothermal displacement field of TFT-LCD backlight modules
指導教授(中文):王偉中
指導教授(外文):Wang, Wei-Chung
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:動力機械工程學系
學號:9633563
出版年(民國):98
畢業學年度:97
語文別:中文
論文頁數:102
中文關鍵詞:薄膜電晶體液晶顯示器背光模組溫濕規範陰影雲紋法相位移技術接觸分析
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本研究依據業界相關溫濕規範條件以數位陰影雲紋法(Digital Shadow Moir□ Method)配合四步相位移(Four-Step Phase-Shifting)技術量測用於智慧型手機及導航系統之4.3吋薄膜電晶體液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD)背光模組之平面外位移場,期能以數位陰影雲紋法之線上觀測優勢,取代目前業界必須於可靠度測試中途多次另行由恆溫恆濕試驗機中移出背光模組做輝度量測之檢測方式,而成為背光模組溫濕規範可靠度測試之新方法。本研究之實驗結果顯示在高溫高濕之規範條件下背光模組之面外位移量最大。
本研究亦以有限元素法套裝軟體ANSYS進行模擬分析,探討相同實驗條件下,不同法線方向裕度之背光模組的面外位移,雖然受限於電腦設備之記憶體容量而無法得到與實驗結果一致之數值架構,但本研究已首次提供了一以ANSYS進行背光模組內零組件未相黏合之接觸及熱變形分析範例。
一、簡介 1
二、文獻回顧 5
2.1薄膜電晶體液晶顯示器 5
2.2 陰影雲紋法 8
三、實驗理論 10
3.1 數位陰影雲紋法 10
3.2 相位移(Phase-Shifting)原理 13
3.3 模數π轉換 15
3.4消除試片剛體旋轉位移量 16
四、實驗裝置與試片規劃 17
4.1 實驗裝置 17
4.1.1 溫度濕度控制系統 17
4.1.2 數位陰影雲紋法光學系統 17
4.2 試片規劃 20
4.2.1 試片實驗條件 20
4.2.2 背光模組裕度與光學膜片配置 21
五、實驗程序 22
5.1溫濕規範之平面外位移量測實驗條件設置 22
5.2溫濕規範之平面外位移量測實驗步驟 23
5.2.1 試片準備 23
5.2.2 架設數位陰影雲紋法暨相位移系統 24
5.2.3 校正數位陰影雲紋法暨相位移系統 24
5.2.4 取相 24
5.2.5 影像處理與相位分析 25
5.2.6 重建試片變形之表面形貌 26
5.3 光學膜片機械性質測試 26
5.3.1 密度測試 27
5.3.2 楊氏係數與蒲松比測試 27
5.4 ANSYS數值模擬 28
5.4.1 熱傳分析 28
5.4.2 結構分析 30
六、結果與討論 32
6.1 溫濕規範之平面外位移量測 32
6.1.1 溫濕規範A︰高溫儲存實驗 33
6.1.2 溫濕規範B︰高溫點亮實驗 34
6.1.3 溫濕規範C︰高溫高濕實驗 36
6.1.4 誤差之因素探討與排除 38
6.2光學膜片機械性質測試 40
6.2.1 密度測試 40
6.2.2 楊氏係數與蒲松比測試 40
6.3 ANSYS數值模擬 43
6.3.1 簡化之架構 43
6.3.2 初始架構與實驗結果之比對 44
6.3.3 熱接觸傳導係數設定之比較 46
6.3.4 邊界條件變更 47
6.3.5 削減塑膠框架體積之模擬 48
6.3.6 背光模組試片熱變形數值模擬困難點 50
七、結論與未來展望 52
7.1 結論 52
7.2 未來展望 53
八、參考文獻 55
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