帳號:guest(18.217.181.166)          離開系統
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  

詳目顯示

以作者查詢圖書館館藏以作者查詢臺灣博碩士論文系統以作者查詢全國書目
作者(中文):陳育成
作者(外文):Chen, Yu-Cheng
論文名稱(中文):以電漿輔助化學氣相沉積法在聚對苯二甲酸乙二醇酯基材製備氧化矽阻障層之研究
論文名稱(外文):Investigations of SiOx-like diffusion barriers on PET deposited by PECVD
指導教授(中文):寇崇善
指導教授(外文):Kou, Chwung-Shan
學位類別:碩士
校院名稱:國立清華大學
系所名稱:物理系
學號:9722537
出版年(民國):99
畢業學年度:98
語文別:中文
論文頁數:64
中文關鍵詞:阻障層電漿輔助化學氣相沉積法六甲基矽氧烷
外文關鍵詞:BarrierPECVDHMDSO
相關次數:
  • 推薦推薦:0
  • 點閱點閱:353
  • 評分評分:*****
  • 下載下載:9
  • 收藏收藏:0
摘要
本研究使用電漿輔助化學氣相沉積法(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD),混合有機單體六甲基矽氧烷(Hexamethyldisiloxane,HMDSO)、氮氣及氧氣作為反應氣體在polyethyleneterephthalate (PET)上置備氧化矽阻障層(diffusion barrier)。探討單體流量、氣體流量、腔體壓力及偏壓大小,對二氧化矽/PET的複合膜水氣穿透率(water vapor transmission rate,WVTR)的影響。並利用傅氏轉換紅外線光譜儀(FT-IR)、化學分析電子儀(ESCA)、接觸角量測系統、橢圓偏光儀(ellipsometer)、掃描式電子顯微鏡(SEM)、紫外光-可見光光譜儀(UV-Vis)及原子力顯微鏡(AFM)分析膜材之物理及化學性質。最後討論化學結構及表面形貌與水氣穿透率關聯性。
目錄
第一章 簡介....................................1
1.1 研究動機...................................1
1.2 OLED簡介...................................3
1.3 OLED封裝技術...............................4
1.3.1 封蓋(ecapsulation)技術...................4
1.3.2 薄膜保護層(thin film barrier)技術........5
1.4 微波電漿源的優點...........................8
1.5 微波電漿源的瓶頸...........................9
1.6 微波激發同軸慢波結構線型表面波系統.........11
1.7 研究內容...................................13
第二章 研究方法與儀器原理......................15
2.1 電漿處理實驗設備...........................15
2.2 氧化矽膜材材料分析儀器.....................22
2.2.1 掃描式電子顯微鏡.........................22
2.2.2 化學分析電子儀...........................23
2.2.3 橢圓偏光儀...............................24
2.2.4 原子力顯微鏡.............................24
2.2.5 傅氏轉換紅外線光譜儀.....................25
2.2.6 接觸角量測系統與表面能分析...............25
2.2.7 紫外光-可見光光譜儀......................28
2.2.8 透水氣測試儀.............................29
2.3 實驗流程...................................30
第三章 數據分析與討論..........................33
3.1 HMDSO流量之影響............................34
3.2 O2/HMDSO流量比之影響.......................43
3.3 不同偏壓之影響.............................55
第四章 結論....................................61
4.1 實驗結論...................................61
4.2 建議事項...................................62
參考文獻.......................................63
參考文獻
1.Steven M.D., Hotchkiss J.H., Packag. Technol. Sci. 15 (2002) 17.
2.Lee J.H., Jeong C.H., et al., Surf. Coat. Technol. 200 (2005) 680.
3.Burrows P.E., V. Bulovic, S.R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 2922.
4.N. Schiller, S. Straach, et al., Proceeding of Society of Vacuum Coaters 44 Annual Technical Conference, 2001, p. 184.
5.Burrows P.E., G.L. Graff, M.E. Gross, et al., Displays 22 (2001) 65.
6.M.R. Pennel, Presentation in Plastic Electronics Conference, Frankfurt, 2005.
7.G.L. Czeremuszkin, M.R. Wertheimer, A.S. Da Sibringo, Plasmas Polym. 6 (2001) 107.
8.E.M. Liston, L. Martinu, M. R. Wertheimer, J. Adhes. Sci. Technol. 7 (1993) 1091.
9.張秋萍,黃天恆,化工資訊與商情,第18期,2004。
10.Bichler C, Kerbstadt T, Langowski H. C., et al., Surf. Coat. Technol. 97 (1997) 299.
11.Feng T., X. Wang, F.M. Zhang, et al., Int. J. Mod. Phys. B16 (2002) 1052.
12.Teshima K., H. Sugimura, Y. Inoue, et al., Langmuir 19 (2003) 8331.
13.Gao D., K. Urukawa, H. Nakashima, et al., Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 4868.
14.Walther M., M. Heming, M. Spallek, Surf. Coat. Technol. 80 (1996) 200.
15.K. Muraoka, C. Honda, K. Uchino, et al., Plasma Source Sci. Technol. 3 (1994) 473.
16.Brake M. L., HInkle J., Asmussen J., et al., J. Plasma Chem. Plasma Process 3 (1983) 63.
17.Michael A. Lieberman, Richard A. Gottsho, Phusics of thin films 18 (1994).
18.潘彥儒博士論文,微波激發同軸慢波結構線型表面波電漿源之研究,2009年七月。
19.G.F. Leu, A. brockhaus, J. Engemann, Surf. Coat. Technol. 174-175(2003) 928.
20.S. Zarrabian, C. Lee, K. H. Guenther, Applied Optics 32 (1993) 5606.
21.J.C. Vickeaman, Surface Analysis- The Principal Techniques, Wiley, New York, 1997.
22.G. Socrates, Infrared and Raman Characteristic Group Frequencies: Tables and Charts 3rd Edition, Wiley, New York, 2001.
23.J. R. Roth, Industrial Plasma Engineering, Vol. 2, Institute of physics Publishing, Bristol, 2001.
24.J. Robert, J. Adhes. Sci. Technol. 6 (1992) 1269.
25.R.S. Kumar, Mark Auch, Eric Ou, et al., Thin Solid Films 417 (2002) 120.
 
 
 
 
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top
* *