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  • 期刊

估算蒸鍍速率以提升膜厚控制準確度之研究

摘要


本研究以比例法之膜厚控制為基礎,輔以程式評估480-900nm波段穿透率變化計算蒸鍍速率以修正停鍍點閥值,並經薄膜設計軟體模擬分析介電質材料(TiO2)由蒸發源到基板的行進時間(s)與蒸鍍速率(nm/s)等因素對膜厚誤差之影響,以改良光學膜厚監控之準確度。結果顯示,除tooling factor外,亦須考慮真空腔內殘存材料蒸氣所造成之過鍍效應。相較於純粹使用比例法,可提供鍍膜監控的另一項參考依據。

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