同步輻射照射下鋁合金鍍金表面之水氣行為探討

黃琠欽(Tien-Chin Huang)

指導教授 ： 陳俊榮

國立清華大學/原子科學院/生醫工程與環境科學系/碩士(2008年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2008.00033

摘要

本實驗探討表面鍍金的樣品(基材為鋁合金)，受同步輻射光照射時真空中之水氣行為。實驗中利用光束引出管之電極加偏壓或樣品上加偏壓的方式來探討光電子能量或數量對水氣行為之影響。另外，也利用二次離子質譜儀探討曝光前後鋁合金和鍍金樣品表面變化。
實驗結果顯示，鍍金表面之水氣行為與光電子能量、數量及累積劑量有關。當光電子無外加偏壓時，首次照光時，真空中殘留水氣之分壓呈現上升趨勢，而光電子受外加偏壓(能量大於50eV)時，真空中水氣分壓呈現下降趨勢，而且分壓越大，下降之幅度越大。並且也澄清真空中水氣變化之作用來自樣品，而非真空腔表面或光束引出管電極。
SIMS表面分析結果顯示，鋁合金曝水後，其表面水氣訊號及氧化物訊號皆增加。而照光後之鋁合金表面之水氣訊號減少，但表面之氧化物訊號增加。而鍍金表面曝水後，其表面水氣訊號增加，而金之氧化物則無明顯增加。曝光後之鍍金表面，其表面水氣訊號減少，且氧化物並無明顯之增加。

關鍵字

同步輻射光 ； 水氣 ； 鍍金 ； 鋁合金 ； 電子能量 ； SIMS

參考文獻

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