- 學位論文
消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究
Study of Achromatic Interference Lithography Technology Used in Large-Area Lithography
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並列摘要
延伸閱讀
- 劉哲瑋（2010）。以掃描浸潤式微影技術製作高輝度亂數佈點導光板之研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1901201111392020
- 楊哲銘（2009）。以微光陣列進行相位曝光之研究〔碩士論文，國立臺北科技大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6841/NTUT.2009.00064
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- 林建宏（2007）。Ultrasonic Nanoimprint Lithography Technology〔博士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-0210200715263445
- 黃翔塏（2013）。Study on Reduction of Scribe Line Width in Photolithography Process〔碩士論文，國立交通大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6842/NCTU.2013.00820