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  • 學位論文

N型金氧半場效電晶體選擇性使用源汲極延伸摻雜做為Mask ROM與EEPROM之應用

Characterizations of n‐channel MOSFETs with Tailored Source/Drain Extension for Mask ROM and EEPROM Applications

指導教授 : 龔正 黃智方
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因申請專利緣故,資料延後公開

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NVM Mask ROM EEPROM NOI LDD

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