線型雙源電漿源系統開發與特性分析

Development and Characteristics Analysis of Linear Double Plasma Sources

李世文(Lee, S. W.)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2009年)

摘要

目前大面積微波電漿源，多是利用大片石英板做為電磁波耦合窗口，面積越大，石英板厚度越厚，所需的功率亦隨之增加，散熱也是問題之一。故實驗中採用線型微波電漿源激發電漿，由於為圓柱型結構，壓力分散，石英管厚度較薄，同功率下激發效果也較好。
線型微波源在上階段的研究中加入同軸慢波結構，以激發電漿表面波，此結構優點為(1)微波以表面波方式傳遞，能量損失較少(2)微波傳輸波長縮短，空間中的駐波亦縮短，對電漿均勻性有一定的幫助。
另一方面，因為射頻功率波長較長(13.56MHz)，對電漿穿透度高，較易激發長尺寸電漿，故加入電感式耦合電漿(ICP)射頻功率源系統，以提高微波源均勻激發電漿的能力。本研究探討線性電感式電漿，與線型微波電漿的優點，以產生長尺寸穩定之電漿系統。實驗結果顯示，線型微波源加入射頻功率後，激發長度明顯增長，且密度可達1011cm-3為高密度電漿源。

關鍵字

電感耦合式電漿源 ； 微波電漿源 ； 線型 ； 表面波

並列摘要

無資料

並列關鍵字

ICP ； microwave plasma source ； linear ； surface wave

參考文獻

[8] 林欣樺碩士論文，同軸慢波結構產生電漿之線性分析，2007年6月

[2] J.H. Keller,Plasma Source Sci. Technol. 5 p166 1996

[3] M. Dickson ,G.Zhong ,and j. Hopwood,j. Vac. Sci Technol.

[5] M. Laroussi. IEEE Trans. Plasma Sci. 24,1188-1191 (1996)

[6] J Hopwood, plasma Source Sci. Technol 1 p.109 1992