本論文研究重點是,應用LIGA製程之X光微影(X-Ray Lithography)技術,進行3D微結構加工可行性之研究。 論文分為兩個主要部分,第一為架構3D微結構曝光系統,此系統硬體包含在真空腔內作相對運動之光罩固定平台及奈米定位運動平台;軟體系統包含,正向路徑曝光加工模擬系統及奈米平台控制系統。第二為以X光刀加工平面(或特徵曲面)工件之正向路徑規劃、模擬及實驗驗證,以確立不同形狀光刀之各項參數與加工結果間之關係,整合前段光罩設計製造技術與後段顯影粗糙度實驗結果,建立製程參數數據庫。 本論文建構之3D為結構加工系統可由加工路徑製造出特徵3D曲面之為結構,加工範圍為200×200μm,表面粗糙度為30nm。