- 學位論文
純鍺金氧半元件之介面層工程對電與物理特性研究
Electrical and Physical Characteristics of Germanium MOS Device with Interfacial Layer Engineering
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無資料延伸閱讀
- 黎孟琦（2014）。介面層經熱與氫氣處理對純鍺金氧半電晶體之特性影響研究〔碩士論文，國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://doi.org/10.6843/NTHU.2014.00323
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