變壓器耦合式電漿源特性量測與等效電路模擬分析

The Characterization and Circuit Model of a Transformer Coupled Plasma Source

林剛毅(Gang-yi Lin)

指導教授 ： 寇崇善

國立清華大學/理學院/物理學系/碩士(2012年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2012.00377

摘要

本研究目的為建立變壓器耦合式電漿源系統，使用實驗室自行研發的低頻功率源，頻率操作範圍為15-250 kHz，目前已經成功設計出最大功率可達1-2 kW，電漿密度在1012-1013 cm-3的高密度電漿源。使用電路量測方法，量測電漿的電壓電流訊號，使用Pspice軟體來進行電漿的電路模擬分析，成功建立電漿等效電路模型。針對氬氣與氮氣兩種不同氣體，由Langmuir probe量測結果與Pspice模擬比較來討論各自的電漿特性。

關鍵字

變壓器耦合式電漿源 ； 電漿 ； 變壓器

並列摘要

無資料

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Pspice ； TCP ； Toroidal Discharage ； low frequency discharage ； Transformer ； ICP

參考文獻

[1] L. Xiao-jing, Q. G.-j. a, and C. Jie-rong, "The effect of surface modification by nitrogen plasma on photocatalytic degradation of polyvinyl chloride films," Applied Surface Science, vol. 254, pp. 6568-6574, 2008.

[2] M. Laroussi, "Sterilization of contaminated matter with an atmospheric pressure plasma," Plasma Science, IEEE Transactions on, vol. 24, pp. 1188-1191 1996.

[3] J. Hopwood, "Review of inductively coupled plasmas for plasma processing," Plasma Sources Sci. Technol., vol. 1, pp. 109-116, 1992.

[4] C. G. Smith, "Studies of a Ring Discharge," Physical Review, vol. 59, pp. 997-1004, 1941.

[5] H. U. Eckert, "Induction Plasmas at Low Frequencies," AIAA Journal, vol. 9, pp. 1452-1456, 1971.