透過您的圖書館登入
IP:18.116.62.45
  • 學位論文

有機光阻絕緣層導入量產之評估研究

The evaluation and research about inducts organic photoresist insulator to produce line

指導教授 : 段葉芳
若您是本文的作者,可授權文章由華藝線上圖書館中協助推廣。

摘要


關於有機光阻(壓克力系光阻)的研究報告,大多數著重於探討合成方法或其基本性質研究,在實際量產線的評估研究較為缺乏。因此本篇論文將以實際四代量產線生產機台作為評價有機光阻絕緣層之用,希望能建立簡單的評估方式得到最佳的結果。 本研究主要使用S公司所提供之有機光阻作一系列評估:塗佈轉速、光阻塗佈均一性、損失量、曝光能量、顯影時間...等,來求得最適量產的條件,進而利用有機光阻絕緣層可以增加開口率、平坦化、絕緣之優點,使薄膜電晶體液晶顯示器能有更好的發展及未來。

並列摘要


參考文獻


[22]李昆源,“含三甲基矽共聚合物化學增幅型光阻劑之合成及其性質探討”,大同大學化學工程研究所碩士論文,台北,2004。
[2] 呂淑宜,“TFT-LCD產業新產品開發流程之研究-以中小尺寸OLED為例”,國立清華大學工業工程與工程管理研究所碩士論文,新竹,2005。
[3] 賴佳宏,“薄膜電晶體液晶顯示器(TFT LCD)產業之技術發展趨勢研究”,中原大學企業管理學系碩士論文,中壢,2003。
[11] 曾俊杰,洪壽懋,劉瑞祥,“環狀脂肪族高分子之合成及其在化學增幅正型光阻劑之應用研究”,國立成功大學化學工程學系,台南,2004。
[13]Takahiro Matsuo, Masayuki Endo, Shigeyasu Mori et al., “Polymer design insurface modification resist process for ArF lithography”, proc. SPIE, 3333,,1998,pp.2。

延伸閱讀