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【學者觀點】倪仲俊談SDG17夥伴關係:人,才是永續發展的核心!
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反應式直流磁控濺鍍法製備 (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx 高熵薄膜之研究
Study on High-entropy Nitride Films of (Al,Cr,Nb,Si,B,C)100-xNx by DC Reactive Magnetron Sputtering
蔡佳凌
指導教授 :
葉均蔚
國立清華大學/工學院/材料科學工程學系/碩士(2014年)
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賴思維(2006)。
以反應式直流濺鍍法製備AlBCrSiTi高熵氮化物薄膜及其性質探討
〔碩士論文,國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1303200709302352
Huang, K. J. (2015).
脈衝雷射沉積法製作 [Co(100) / Cu(100)]x /H-Si(100)多層膜磁性行為研究
[master's thesis, National Taiwan Normal University]. Airiti Library. https://doi.org/10.6345%2fNTNU202205337
蔡耀庭(2006)。
Al-Cr- Fe-Mn-Ni高熵合金冷加工及時效後微結構及性質之研究
〔碩士論文,國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-1303200709305622
曾思蒨(2012)。
以反應式直流濺鍍法製備AlCrNbSiTa 高熵氮化物薄膜及其性質探討
〔碩士論文,國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2002201315264758
張境芳(2013)。
Study on Al-Cr-Nb-Si-Ta High-Entropy Nitride Films
〔碩士論文,國立清華大學〕。華藝線上圖書館。https://www.airitilibrary.com/Article/Detail?DocID=U0016-2511201311343600
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