1.矽陰離子與三羰鐵錯合物的加成反應 2.銠催化之分子內Pauson-Khand Reaction

何瑾璇

指導教授 ： 葉名倉

國立臺灣師範大學/理學院/化學系/碩士(2002年)

摘要

本論文共分成三部份：
以三羰基鐵活化後的共軛雙烯，在不同溫度下，將碳的親核性試劑加成到（h4-1,3雙烯）三羰鐵錯合物後，所得的中間體與Davis reagent反應，可以得到一系列不同位置取代的雙烯鐵錯合物，其產物的種類與生成的反應中間體有絕對的關係。
以有機矽陰離子為親核性試劑與雙烯三羰鐵錯合物進行加成反應，再以不同的親電子試劑終止反應，亦可得到一系列不同的有機矽化物。以Davis reagent終止時，產物保持原本雙烯三羰鐵的構造，然而以三氟醋酸或苯甲醯氯為親電子性試劑，則所得到的產物以乙烯基矽化物為主。從反應機構推測，閉環系統中矽陰離子會加成在電子密度較小的雙烯中間位置，而開環系統的矽陰離子則會加成到立障較小的雙烯末端。
利用有機鋅銅試劑製備帶炔官能基之雙烯三羰鐵錯合物，再利用氧化劑將鐵去錯合，可得C-5位置帶炔官能基之環己雙烯化合物。以此為起始物，在銠金屬的催化下進行Pauson-Khand反應，結果可得到各式連結、架橋、螺旋多環化合物，並擁有好的立體選擇性和產率。

關鍵字

三羰鐵錯合物 ； 矽陰離子 ； 銠金屬 ； 分子內環化反應

並列摘要

無資料

並列關鍵字

Davis reagent ； silicon ； rhodium ； Pauson-Khand Reaction

參考文獻

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