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以HPDMS轉印複製製程在D 型光纖上製作高解析度週期結構

本研究提出D 型光纖的研磨技術，並結合黃光微影製程(Photolithography)、光學全像術干涉微影(Holographic Interference Lithography)技術、微模轉印技術，製作出D 型光纖布拉格表面光柵濾波元件。 首先以多模光纖製作成研磨試片後，進行試片單邊研磨(Side-Polished)，其精確的研磨拋光直到光纖纖芯為止。下一步進行黃光微影製程與光學全像干涉微影技術，來製作繞射光柵濾波元件；利用旋轉塗佈正光阻，將短週期布拉格表面光柵曝光於玻璃基板上，並且利用HPDMS材料轉印其光柵特徵結構。 最後我們將以微模轉印技術，將光柵特徵精確複製於光纖研磨面上 。研究中我們將可完成製作出以微模轉印複製之D型光纖光柵濾波元件，其光柵週期與深度可由原子力顯微鏡(AFM)觀察，及光學傳輸特性可由ASE寬頻光源與光纖極化器利用光頻譜分析儀(OSA)等測量與紀錄實驗之結果。