硼摻雜在偏壓下對鑽石膜沈積的影響

Study on Bias Growth of Boron Doped Diamond Films

顏澤宇(Ze-yu Yen)

指導教授 ： 賈至達

國立臺灣師範大學/理學院/物理學系/碩士(2003年)

摘要

多晶鑽石薄膜之合成法中，偏壓輔助法能夠快而有效的進行鑽石膜沈積，因此受大部分研究者所親睞。偏壓輔助成長鑽石的研究通常偏好於較高負偏壓下奈米鑽石的尺度較多，相關文獻也較齊全，因此本論文主要以較少人討論的低負偏壓輔助成長來作為研究主題，並試圖加入硼摻雜一起討論研究偏壓輔助成長對場發射的影響。

關鍵字

鑽石膜 ； 硼 ； 偏壓 ； 拉曼 ； 場發射 ； 微波電漿化學汽相沈積

並列摘要

無資料

並列關鍵字

Diamond ； Boron ； Bias ； Raman ； field emission ； mpecvd

參考文獻

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