本實驗使用輝光放電清洗方法處理樣品表面,並利用長時間曝光的方式,探討鋁合金表面受同步輻射光照射時與水氣之作用行為。 由殘留氣體分析儀質譜顯示,經不同輝光放電清洗之鋁合金樣品在施加正偏壓照光時,水氣分壓下降量比例由小而大依序為:1.以氫氣輝光放電處理,2.以氬氣輝光放電處理,3.以氧氣輝光放電處理,4.未經輝光放電處理,此順序大致與輝光放電處理後對於樣品表面氧化物之消耗程度有關。從本實驗結果來看,鋁合金曝光時真空腔內水氣分壓下降機制,與鋁合金樣品表面之氧含量有關,表面氧含量越多,照光時水氣分壓下降幅度越大。 另外,本實驗結果亦發現,當偏壓為+100V時,經過氬氣、氧氣及氫氣輝光放電處理過之樣品表面,照光時水氣分壓會明顯上升而後下降,此現象在其他分壓條件或未經輝光放電處理之樣品皆未發現。因此推測照光且施加正偏壓時,打到樣品之電子的能量變化對水氣之形成及脫附之現象,有明顯之影響。而且,輝光放電處理,會影響此作用之能態。 長時間曝光實驗中,光累積劑量達 ,在實驗結束後再照光水氣仍有下降情形,停光後水氣仍有上升情形,判斷反應仍在進行,而由結果中估計達反應飽和劑量約需 。