鋁合金及氮化鈦表面與水氣作用之分析

陳立威

指導教授 ： 陳俊榮

國立清華大學/原子科學院/生醫工程與環境科學系/碩士(2009年)

https://doi.org/10.6843/NTHU.2009.00348

摘要

本文利用二次離子質譜術(SIMS)以及殘留氣體分析法探討鋁合
金受同步輻射光照射下與水氣之作用，探討在曝入大量水氣的鋁合金
表面受光照射後組成變化，並藉由鍍膜氮化鈦樣品隔絕水氣與鋁合金
表面之作用，了解照光時水氣分壓下降之機制。
SIMS 表面分析結果顯示，鋁合金曝光後，表面之水氣、氧化物
及氫氧化物訊號為增加現象；氮化鈦樣品曝光後，表面水氣些微減
少，氧化物些微增加，但現象並不明顯。而曝光時之殘留氣體分析結
果顯示，鋁合金樣品在照光時曝光腔內水氣分壓呈現下降趨勢，而氧
氣分壓上升，但氮化鈦樣品在照光時曝光腔內水氣分壓呈現上升趨
勢，但氧氣訊號不明顯。本文綜合結果顯示鋁合金曝光時，真空腔內
水氣分壓下降之機制，是以鋁合金表面之氧化層為主要場所，其機制
牽涉到吸水作用、產生氧化物作用以及產生氧氣作用等過程。

關鍵字

鋁合金 ； 氮化鈦 ； 水氣 ； 表面

並列摘要

無資料

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TiN

參考文獻

超高真空腔臭氧水清洗之研究 ”，真空科技，Vol.21 No.3、4

Clean Ultrahigh Vacuum System by Chemical Process Technology,”

J.Vac. Sci. & Technol. A 11(4), 1719 (1993).

“Outgassing Behavior on Aluminum Surface: Water in Vacuum

System,” J. Vac. Sci. Technol. A12(4), 1750(1994)