Ni/TiO_2及Ni/TiO_2/SiO_2觸媒經由175℃氫氣流還原後,不僅生成金屬Ni^0,亦生成如紫外線還原後產生之Ni^+及Ti^3+離子,只是Ni^+之電子自旋共振光譜訊號微弱些。該觸媒再經由高溫還原,呈現較Ni/SiO_2為強的一氧化碳氫化反應之活性。Ni/TiO_2/SiO_2的高活性應是其間存在少量之Ti^(3+)或TiO_x與表面之Ni^0或Ni^+緊密相鄰,並支撐在大表面積的SiO_2上所致。
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